SK Hynix driver lokalisering av japansk-monopoliserad EUV-fotoresist... Samarbetar med Dongjin Semichem SK Hynix har påbörjat lokalisering av Extreme Ultraviolet (EUV) fotoresist (PR), en marknad dominerad av Japan. Detta steg syftar till att stärka leveranskedjan för viktiga avancerade halvledarmaterial samtidigt som konkurrenskraften inom halvledartillverkning förbättras. Enligt branschkällor har det den 7:e fastställts att SK Hynix har börjat utveckla högpresterande EUV PR i samarbete med Dongjin Semichem. Målet är inte bara att ersätta EUV PR som tidigare levererats av japanska företag som JSR och Tokyo Ohka Kogyo (TOK), utan också att utveckla material som levererar överlägsen prestanda. En tjänsteman med insyn i ärendet sade: "De kräver material som kan leverera bättre prestanda än japanska produkter," och tillade: "Jag förstår att de specifikt begärt förbättringar i PR-känsligheten för att öka produktiviteten." SK Hynix lokaliserade tidigare EUV PR år 2023 genom sin filial, SK Materials Performance. Produkten som skapades vid den tiden var dock känd för att ha lägre specifikation. För högpresterande PR i kritiska halvledarlager har företaget hittills förlitat sig 100 % på Japan. PR är ett material som används i litografiprocessen. När ljus bestrålas (exponeras) på en wafer för att avtrycka halvledarmikrokretsar, är PR det ämne på waferytan som reagerar på ljuset. EUV är en viktig exponeringsteknologi för att implementera ultrafina kretsar runt 10 nanometer (nm), och ASML i Nederländerna är världens enda leverantör av EUV-litografiutrustning. SK Hynix driver på för EUV PR-utveckling för att maximera användningen av litografiutrustning, som kostar upp till 200 miljarder won per enhet, och för att möta den snabbt växande efterfrågan på EUV-lager i DRAM. Enligt halvledarindustrin minskar ökad PR-känslighet exponeringstiden. Eftersom reaktionshastigheten är snabbare är det möjligt att implementera mikrokretsar på kortare tid. Detta innebär att produktionskapaciteten kan variera beroende på vilken PR som används, även med samma utrustning. Dessutom, i takt med att EUV-processer ökar i DRAM, har behovet av PR-utveckling ökat. Antalet EUV-lager per generation är: ett för 10nm-klassen fjärde generationen (1a), tre för femte generationen (1b), fem för sjätte generationen (1c) och sju för sjunde generationen (1d). Det förväntas öka ytterligare för produkter under 10 nm. Materialutveckling tar en betydande tid, och EUV PR har höga inträdesbarriärer. Det är svårt att förutsäga vilka resultat samarbetet mellan SK Hynix och Dongjin Semichem kommer att ge. Naturligtvis, om kommersialiseringen lyckas, kan det fungera som en möjlighet att lyfta konkurrenskraften inom den inhemska materialindustrin till nästa nivå. En tjänsteman från SK Hynix sade: "Vi kan inte avslöja specifika utvecklingsdetaljer," men tillade: "Vi fortsätter samarbetet med olika företag, inklusive materialtillverkare, för att förbättra produktiviteten."