SK Hynix стремится к локализации фотопозитивов EUV, монополизированных Японией... Партнерство с Dongjin Semichem SK Hynix начала локализацию фотопозитивов Extreme Ultraviolet (EUV), рынок которых контролируется Японией. Этот шаг направлен на укрепление цепочки поставок для важных передовых полупроводниковых материалов, одновременно повышая конкурентоспособность производства полупроводников. Согласно источникам в отрасли, 7 числа было установлено, что SK Hynix начала разработку высокопроизводительных фотопозитивов EUV в сотрудничестве с Dongjin Semichem. Цель состоит не только в том, чтобы заменить фотопозитивы EUV, ранее поставляемые японскими компаниями, такими как JSR и Tokyo Ohka Kogyo (TOK), но и в разработке материалов, которые обеспечивают более высокую производительность. Официальный источник, знакомый с ситуацией, заявил: "Им нужны материалы, способные обеспечить лучшую производительность, чем японские продукты," добавив: "Я понимаю, что они специально запросили улучшения в чувствительности фотопозитивов для повышения производительности." Ранее SK Hynix локализовала фотопозитивы EUV в 2023 году через свою аффилированную компанию SK Materials Performance. Однако продукт, созданный в то время, был известен как имеющий более низкие характеристики. Для высокопроизводительных фотопозитивов, используемых в критически важных слоях полупроводников, компания до сих пор полагалась на 100% японские поставки. Фотопозитив — это материал, используемый в процессе литографии. Когда свет излучается (экспонируется) на пластину для нанесения микроцепей полупроводников, фотопозитив — это вещество на поверхности пластины, которое реагирует на свет. EUV — это важная технология экспонирования для реализации ультратонких цепей около 10 нанометров (нм), и ASML из Нидерландов является единственным поставщиком оборудования для EUV литографии в мире. SK Hynix стремится к разработке фотопозитивов EUV, чтобы максимизировать использование литографического оборудования, стоимость которого может достигать 200 миллиардов вон за единицу, и чтобы ответить на быстро растущий спрос на слои EUV в DRAM. Согласно данным полупроводниковой отрасли, увеличение чувствительности фотопозитивов сокращает время экспонирования. Поскольку скорость реакции быстрее, возможно реализовать микроцепи за более короткое время. Это означает, что производственные мощности могут варьироваться в зависимости от используемого фотопозитива, даже при одинаковом оборудовании. Кроме того, с увеличением процессов EUV в DRAM возросла необходимость в разработке фотопозитивов. Количество слоев EUV по поколениям: один для 10-нм класса 4-го поколения (1a), три для 5-го поколения (1b), пять для 6-го поколения (1c) и семь для 7-го поколения (1d). Ожидается, что это количество увеличится для продуктов с под-10 нм. Разработка материалов занимает значительное время, и фотопозитивы EUV имеют высокие барьеры для входа. Трудно предсказать, какие результаты даст сотрудничество между SK Hynix и Dongjin Semichem. Естественно, если коммерциализация будет успешной, это может стать возможностью для повышения конкурентоспособности отечественной материальной промышленности на следующий уровень. Официальный представитель SK Hynix заявил: "Мы не можем раскрыть конкретные детали разработки," но добавил: "Мы продолжаем сотрудничество с различными компаниями, включая производителей материалов, для повышения производительности."