SK Hynix usiluje o lokalizaci japonsky monopolizovaného EUV fotoresistu... Partnerství s Dongjin Semichem SK Hynix zahájil lokalizaci extrémně ultrafialového (EUV) fotorezistu (PR), trhu, který dominuje Japonsku. Tento krok má za cíl posílit dodavatelský řetězec pro nezbytné pokročilé polovodičové materiály a zároveň zvýšit konkurenceschopnost polovodičové výroby. Podle průmyslových zdrojů bylo 7. května zjištěno, že SK Hynix začal vyvíjet vysoce výkonné EUV PR ve spolupráci s Dongjin Semichem. Cílem není pouze nahradit EUV PR, které dříve dodávaly japonské firmy jako JSR a Tokyo Ohka Kogyo (TOK), ale také vyvinout materiály s nadřazenými výkony. Úředník obeznámený se situací uvedl: "Potřebují materiály schopné dosáhnout lepšího výkonu než japonské produkty," a dodal: "Chápu, že konkrétně požadovali zlepšení citlivosti na PR pro zvýšení produktivity." SK Hynix již v roce 2023 lokalizoval EUV PR prostřednictvím své přidružené společnosti SK Materials Performance. Nicméně produkt vytvořený v té době byl známý jako nižší specifikace. Pro vysoce výkonné PR používané v kritických polovodičových vrstvách se společnost dosud 100 % spoléhala na Japonsko. PR je materiál používaný v litografickém procesu. Když je světlo ozářeno (vystaveno) na destičku, aby se otiskly polovodičové mikroobvody, PR je látka na povrchu destičky, která reaguje na světlo. EUV je nezbytná expoziční technologie pro implementaci ultrajemných obvodů kolem 10 nanometrů (nm) a ASML z Nizozemska je jediným světovým dodavatelem zařízení pro EUV litografii. SK Hynix prosazuje vývoj EUV PR, aby maximalizoval využití litografického vybavení, které stojí až 200 miliard wonů za jednotku, a reagoval na rychle rostoucí poptávku po EUV vrstvách v DRAM. Podle polovodičového průmyslu zvýšení citlivosti na PR snižuje dobu expozice. Protože rychlost reakce je vyšší, je možné mikroobvody realizovat za kratší dobu. To znamená, že výrobní kapacita se může lišit v závislosti na použitém PR, i při stejném vybavení. Také s rostoucím množstvím procesů EUV v DRAM roste i potřeba rozvoje PR. Počet vrstev EUV podle generací je: jedna pro 4. generaci třídy 10nm (1a), tři pro 5. generaci (1b), pět pro 6. generaci (1c) a sedm pro 7. generaci (1d). Očekává se, že se dále zvýší u produktů pod 10nm. Vývoj materiálů zabere značné množství času a EUV PR má vysoké vstupní bariéry. Je těžké předpovědět, jaké výsledky přinese spolupráce mezi SK Hynix a Dongjin Semichem. Samozřejmě, pokud bude komercializace úspěšná, může to být příležitost pozvednout konkurenceschopnost domácího materiálového průmyslu na vyšší úroveň. Jeden z představitelů SK Hynix uvedl: "Nemůžeme zveřejnit konkrétní detaily vývoje," ale dodal: "Pokračujeme ve spolupráci s různými společnostmi, včetně výrobců materiálů, abychom zvýšili produktivitu."