Říkám nesmyslům – dávám 0 % kontroly, že je to praktické. DUV s vlnovou délkou 190nm, který se snaží leptat rysy v rozlišení 2nm, je jako malovat jednotlivé řasy širokým štětcem na stěnách. Složitost patterningu zde bude exponenciální a výnosy porostou < 5 %.