Questo è ENORME: la scoperta del nanoimprinting a 10nm del Giappone. Il Giappone ha appena costruito un avanzamento nella litografia che raggiunge caratteristiche di 10 nm e potrebbe sfidare il dominio dell'EUV… utilizzando solo un decimo dell'energia. Dai Nippon Printing (DNP) ha sviluppato un template di litografia a nanoimprinting (NIL) da 10 nm per semiconduttori logici di classe 1.4nm. "Invece di colpire i wafer con luce ultravioletta estrema, questo metodo imprime fisicamente modelli ultra-fini, riducendo il consumo energetico a quasi un decimo rispetto all'EUV." "Il nuovo template NIL di DNP raggiunge larghezze di linea di 10 nm, riduce le dimensioni del sistema e la domanda di energia, e potrebbe aiutare a bypassare i costi e i colli di bottiglia massicci dell'EUV. Le valutazioni dei clienti iniziano nel 2026, con la produzione di massa pianificata per il 2027." Stiamo vivendo nell'era di accelerazione SciTech più veloce..