Tämä on VALTAVA: Japanin 10nm nanoimprintin läpimurto. Japani rakensi juuri litografian edistysaskelun, joka ulottuu 10 nm:n ominaisuuksiin ja voisi haastaa EUV:n ylivoiman... käyttäen vain kymmenesosan energiasta. Dai Nippon Printing (DNP) on kehittänyt 10 nm nanoimprint-litografiamallin (NIL) 1,4nm luokan logiikkapuolijohteille. "Sen sijaan, että waferit räjäytettäisiin äärimmäisellä ultraviolettivalolla, tämä menetelmä fyysisesti painaa ultrahienoja kuvioita, vähentäen energiankulutusta lähes kymmenesosaan EUV:stä." "DNP:n uusi NIL-malli saavuttaa 10 nm linjaleveyksen, pienentää järjestelmän kokoa ja virrankulutusta sekä voi auttaa kiertämään EUV:n valtavat kustannukset ja pullonkaulat. Asiakasarvioinnit alkavat vuonna 2026, ja massatuotanto on suunniteltu vuodelle 2027." Elämme SciTechin nopeimmalla kiihdytyskaudella..