Presentiamo il Runway AI Summit—un nuovo incontro di un giorno a New York il 31 marzo che riunisce leader del settore nei media, nel cinema, nella pubblicità, nella tecnologia e altro ancora per esplorare come l'AI sta rimodellando il modo in cui viene svolto il lavoro creativo. Il nostro discorso inaugurale: Kathleen Kennedy di Lucasfilm, con altri relatori che saranno annunciati. Scopri di più e registrati al link qui sotto.

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